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混气管式PECVD系统
混气管式PECVD系统
型号: KJ-T1200-S6015LK1-4Z5S
用途:各种薄膜的生长,如:SiOx, SiNx, SiOxNy 和无定型硅(a-Si:H) 等。
规格:根据用户需求定制
特点:采用双层壳体结构和30段程序控温仪表,过零触发、可控硅控制
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