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1200℃高校实验坩埚炉
1200℃高校实验坩埚炉
型号:KJ-V1200-LG
用途:煅烧真空或惰性气体中的高纯度化合物,退火或扩散半导体晶片,也可以用于烘烧或烧结陶瓷材料
规格:1200℃,Φ200×210mm
特点:炉膛保温材料采用整体真空吸附成型,加热元件采用优质硅钼棒
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